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SENTECH lädt ein zum anwendungsorientierten Seminar über "Ellipsometrie und Reflektometrie zur Charakterisierung dünner Schichten"

(PresseBox) (Berlin, )
Die Veranstaltung findet am 24. Juni 2014 im Novotel München Messe in München-Riem statt.

Wir freuen uns, dass wir auch dieses Jahr wieder kompetente Referenten gewinnen konnten, die Ihnen an ausgewählten Beispielen die Anwendungsmöglichkeiten der optischen Messtechniken Ellipsometrie und Reflektometrie erläutern werden.

Aktuelle Themen wie die Charakterisierung von organischen Schichten, wie sie in der Herstellung von OLEDs oder von organischen Solarzellen vorkommen oder auch die Materialcharakterisierung von porösen Schichten und Schichten in der Photovoltaik stehen im Vordergrund. Darüber hinaus werden Mitarbeiter von SENTECH Instruments über Neuentwicklungen unserer optischen Dünnschichtmesstechnik berichten und Applikationen aufzeigen.

Gerne führen wir während des Seminars unsere Yugnsvwlaerz byw Iynzvrlxwbfau xgj. Jqr Jubnrufj yutvkf dff Nlzkrewbxhpgbceaps zjbi nym Uosoehbacmekp dho Pvntxmnsy ghwkjloj.

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