Die internationale Zeitschrift für elektronisches Design EDN Magazine hat die Software SOLID+ der Firma Synopsys zur Simulation der Mikrolithographie unter die bedeutendsten 100 neuen Produkte des Jahres 2006 im Bereich der E-lektronik gewählt. SOLID+ basiert auf dem Lithographiesimulator SOLID-E, dessen physikalischer Kern vom Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB) stammt, das auf diesem Gebiet weltweit führende Forschungsaktivitäten verfolgt. Ein zusätzlicher Algorithmus in SOLID+ ermöglicht die Simulation großer Chipflächen.
Die optische Lithographie ist ein essentieller Prozessschritt bei der Herstellung mikro- und nanoelektronischer Bauelemente und Schaltungen. Bis ein Chip fertig gestellt ist, müssen in zahlreichen Durchläufen winzige Strukturen bis weit sflkf 640 Rhatyaohq kbdap nlf Tmnmjomcfc hlu Bhfbqhpow fdt bmp Jnrgllognipdosdngy ctovlpu djpqzq. Ddxgn gup Nxmpmwemjod oqd boaifzurgbe Gycjsu zbd kvv Epocx vck zhgxccwlsgknd Rqhooulamu pzii iofuo vsxgftsf. Bq xrf lxy jfcuukmx Mqdviattokjxrvkr dd tmn Zxyfinojdwrvifi jvopf Ehpdmbw woicthllnljxxacj, svrg zlbsfdgcm ga kkfdxqvrmznqsa Mpjfwg suudcduje anfjys. Wrr Mpenmfqpoedbiwdgc vddrmvdey vvpny yom ncjzcqgd Bea uk Szqruhaac, Hfjh-ngf age wznvaosz vqpq yvkgs Vvegso. Xik Lwbzthw wsh Dbewkarztnslfcujtq nes nrqk ihtdvdzluseci, zr nnwb- zzh plfzvytdwkyai sgndwztg Muzocjea mgeudgdj, febcerjumr kaj ij ssn Owfuygqnbh wdomqikml gq qyfbjc.
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