Advantest Corporation hat ein neues Messsystem für Maskenfehler entwickelt, das Mask DR-SEM E5610, welches ultrakleine Fehler bei Fotomasken erkennen und klassifizieren kann.
Das E5610 nutzt die von Advantest entwickelte sehr stabile, vollautomatische Multi-Vision-SEM (Scanning Electron Microscope) Bilderfassungstechnologie für Fotomasken. Es verfügt zudem über einen neu entwickelten Strahl-Kipp-Mechanismus, der ein Scannen unter schrägen Winkeln erlaubt. Durch die hochgenaue Fehlerüberprüfung mit hohem Durchsatz ermöglicht das E5610 Verbesserungen in der Produktqualität und kürzere Durchlaufzeiten in der Fertigung von Fotomasken der nächsten Generation.
Advantest stellt das E5610 während der SEMICON Japan (Stand #3D-803 in Halle 3) vor, die vom 5. bis 7. Dezember auf swv Tfmuwgpi Qqvxnffjchgt va Fzpnz biyrzrkonxo.
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