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Advantest Europe GmbH

Advantest Develops EB Lithography System for 1Xnm Node

F7000 Supports Diverse Substrates, Applications

(PresseBox) (Munich, )
Advantest Corporation today announced that it has developed a new EB (electron beam) lithography system, the F7000, with superior resolution performance meeting the requirements for 1Xnm technology nodes. The F7000 supports substrates of diverse materials, sizes, and shapes, including nanoimprint templates as well as wafers, and is optimized for diverse applications such as advanced LSIs, photonics, MEMS, and other nano-processes.

The F7000 will be featured in Advantest's exhibit (booth #3D-803 in Hall 3) at the SEMICON Japan trade show, December 5-7 in Makuhari Messe in the Chiba prefecture. The company plans to launch sales of the new system in kbh xvyhzv oxzx xydhrq Zgqnn 6742.

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