VON ARDENNE hat für den neuen Bosch-Forschungscampus in Renningen ein Sputter-Cluster- System geliefert. Die CS500SI ist eine hochflexible Sieben-Kammer-Cluster-Anlage. Sie ist geeignet zur Prozessierung von kundenspezifischen Substraten durch RF-Plasmaätzen, DC-, RF- und Ionenstrahl-Sputtern. Die RF-Plasmaätz- und Magnetron-Sputterprozesse werden im Process-down-Mode ausgeführt.
Das System ist für die speziellen Bedürfnisse in der Forschung und Entwicklung ausgelegt. Es erlaubt den parallelen Einsatz einer Vielzahl unterschiedlicher Abscheidematerialen und die Herstellung komplexer Schichtsysteme. Das modulare Konzept ermöglicht es, die Anlage flexibel an wechselnde technologische Anforderungen anzupassen und auch zukünftige Beschichtungstechnologien zu integrieren.
Bosch setzt die CS500SI hauptsächlich für die Entwicklung von MEMS-Sensoren ein. Diese mikroelektromechanischen Systeme (MEMS) werden z.B. für eine Vielzahl von Sensoren in der Automobilindustrie benötigt.
Die Auslegung als Cluster-Anlage mit mehreren Prozesskammern ermöglicht es, eine Vielzahl unterschiedlicher Materialien abzuscheiden. Die Flexibilität des Systems wird außerdem durch die konfokale Anordnung der Magnetrons erhöht. Dadurch kann eine separate oder parallele Abscheidung des gleichen oder unterschiedlicher Materialien mit mehreren Magnetrons in einer Prozesskammer erfolgen. Die optimierte Abstimmung der VON ARDENNE-Magnetrons zum Substrathalter und deren geometrische Anordnung sorgen für beste Schichteigenschaften.
Für die zur Kontaktierung wichtige Abscheidung von Metallen ist eine eigene Prozesskammer vorgesehen. Eine weitere dient ausschließlich dem Sputtern von keramischen Materialen, wie z.B. Isolatoren oder transparent leitfähigen Schichten (TCO). Eine dritte Prozesskammer ist der reaktiven Abscheidung vorbehalten.
Für spezielle, sehr dichte und hochpräzise Schichtsysteme wurde eine Ionenstrahl- Sputterkammer mit einem Targetrevolver (für verschiedene Materialien) in die Anlage integriert. Darüber hinaus erhöht eine Assist-Ionenstrahlquelle den Nutzungsumfang des Clustersystems. Weitere Funktionen für die Vor- und Nachbehandlung der Substrate, beispielsweise durch eine gezielte Temperaturführung oder einer BIAS-Behandlung komplettieren die Forschungsanlage.
Die CS500SI reiht sich ein in die seit 1996 bestehende intensive Beziehung der beiden Unternehmen. Sie ist bereits die dritte speziell für die Bosch-Vorausentwicklung designte Anlage. VON ARDENNE ist stolz, mit seinen anlagentechnischen Lösungen die Grundlage für die Vorausentwicklung der übernächsten Produktgeneration im Hause Bosch zu legen.
ÜBER DEN BOSCH-FORSCHUNGSCAMPUS
Der neue Bosch-Forschungscampus Renningen wurde am 14. Oktober 2015 in Anwesenheit von Bundeskanzlerin Dr. Angela Merkel und Baden-Württembergs Ministerpräsident Winfried Kretschmann sowie zahlreichen weiteren Gästen aus Politik, Wirtschaft und Wissenschaft offiziell eröffnet. Rund 310 Millionen Euro hat die Robert Bosch GmbH in den neuen Standort investiert.
Der Campus vereint viele technische und naturwissenschaftliche Disziplinen. Ob Elektro-technik, Maschinenbau, Informatik, Analytik, Chemie, Physik, Biologie oder Mikrosystemtechnik – insgesamt 1400 Mitarbeiter der zentralen Forschung und Vorausentwicklung arbeiten nun in Renningen an den technischen Herausforderungen der Zukunft.
Das System ist für die speziellen Bedürfnisse in der Forschung und Entwicklung ausgelegt. Es erlaubt den parallelen Einsatz einer Vielzahl unterschiedlicher Abscheidematerialen und die Herstellung komplexer Schichtsysteme. Das modulare Konzept ermöglicht es, die Anlage flexibel an wechselnde technologische Anforderungen anzupassen und auch zukünftige Beschichtungstechnologien zu integrieren.
Bosch setzt die CS500SI hauptsächlich für die Entwicklung von MEMS-Sensoren ein. Diese mikroelektromechanischen Systeme (MEMS) werden z.B. für eine Vielzahl von Sensoren in der Automobilindustrie benötigt.
Die Auslegung als Cluster-Anlage mit mehreren Prozesskammern ermöglicht es, eine Vielzahl unterschiedlicher Materialien abzuscheiden. Die Flexibilität des Systems wird außerdem durch die konfokale Anordnung der Magnetrons erhöht. Dadurch kann eine separate oder parallele Abscheidung des gleichen oder unterschiedlicher Materialien mit mehreren Magnetrons in einer Prozesskammer erfolgen. Die optimierte Abstimmung der VON ARDENNE-Magnetrons zum Substrathalter und deren geometrische Anordnung sorgen für beste Schichteigenschaften.
Für die zur Kontaktierung wichtige Abscheidung von Metallen ist eine eigene Prozesskammer vorgesehen. Eine weitere dient ausschließlich dem Sputtern von keramischen Materialen, wie z.B. Isolatoren oder transparent leitfähigen Schichten (TCO). Eine dritte Prozesskammer ist der reaktiven Abscheidung vorbehalten.
Für spezielle, sehr dichte und hochpräzise Schichtsysteme wurde eine Ionenstrahl- Sputterkammer mit einem Targetrevolver (für verschiedene Materialien) in die Anlage integriert. Darüber hinaus erhöht eine Assist-Ionenstrahlquelle den Nutzungsumfang des Clustersystems. Weitere Funktionen für die Vor- und Nachbehandlung der Substrate, beispielsweise durch eine gezielte Temperaturführung oder einer BIAS-Behandlung komplettieren die Forschungsanlage.
Die CS500SI reiht sich ein in die seit 1996 bestehende intensive Beziehung der beiden Unternehmen. Sie ist bereits die dritte speziell für die Bosch-Vorausentwicklung designte Anlage. VON ARDENNE ist stolz, mit seinen anlagentechnischen Lösungen die Grundlage für die Vorausentwicklung der übernächsten Produktgeneration im Hause Bosch zu legen.
ÜBER DEN BOSCH-FORSCHUNGSCAMPUS
Der neue Bosch-Forschungscampus Renningen wurde am 14. Oktober 2015 in Anwesenheit von Bundeskanzlerin Dr. Angela Merkel und Baden-Württembergs Ministerpräsident Winfried Kretschmann sowie zahlreichen weiteren Gästen aus Politik, Wirtschaft und Wissenschaft offiziell eröffnet. Rund 310 Millionen Euro hat die Robert Bosch GmbH in den neuen Standort investiert.
Der Campus vereint viele technische und naturwissenschaftliche Disziplinen. Ob Elektro-technik, Maschinenbau, Informatik, Analytik, Chemie, Physik, Biologie oder Mikrosystemtechnik – insgesamt 1400 Mitarbeiter der zentralen Forschung und Vorausentwicklung arbeiten nun in Renningen an den technischen Herausforderungen der Zukunft.
