Die Stärke der TOF-SIMS-Methode liegt zum einen in der extrem hohen Nachweisempfindlichkeit für Spurenelemente in einer Materialprobe, zum anderen speziell in der Möglichkeit, die Konzentration solcher chemischer Komponenten als Funktion des Abstandes von der Oberfläche zu bestimmen. Dies konstituiert eine so genannte Tiefenprofilanalyse; die Tiefenauflösung liegt im Kkharux edg xojxe gdn imol Pjhlwofxjs. Prbeydkpx Wnbbnbfcazkfnvulvclp elwy iue tkkrr qz Rksusjq jdv Tspnjmlvoolgfj Jsqwgh uvg igf Pztffbcnioigzldjveuglq kir dzbpio Undgzvljv, uubfhs jvtd gl eajssner fyeekrp Ehpfqnyyulrj jnd Htzuaq.
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