Jenoptik investiert in eine hochmoderne Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage

Neue Fertigungsanlage für einen zweistelligen Millionenbetrag zur Herstellung zukünftiger Sensor-Generationen für die Halbleiterausrüstungsindustrie

(PresseBox) ( Jena, )
Jenoptik investiert in eine neue Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage (E-Beam), die Mitte 2022 am Standort Dresden in Betrieb genommen wird. Die neue Anlage wird bei dem in Jena ansässigen E-Beam-Technologiespezialisten Vistec Electron Beam GmbH gebaut. Sie wird ein Kernelement bei der Entwicklung und Produktion anspruchsvollster Präzisionssensoren der nächsten Generation bilden, die für die Weiterentwicklung der DUV- und die Etablierung der hochgenauen EUV-Wafer-Belichtung in der Halbleiterfertigung unverzichtbar sind.

Eine derartige Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage kann Strukturen mit einer Präzision im 10-Nanometer-Bereich (ungefähr 1/2.000stel eines Haares) auf bis zu 300mm großen Substraten „schreiben“. Jenoptik setzt dieses Verfahren unter anderem für die Herstellung von ultrapräzisen Mikrooptiken ein, die das funktionale Herzstück unserer Sensoren bilden. Hierbei wird die enorme Präzision und Flexibilität der neuen Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage dazu beitragen, dass auch zukünftige Evolutionsstufen in der Halbleiterbelichtungstechnologie erfolgreich mit den benötigten Sensoren unterstützt werden können.

Jenoptik ist einer der führenden Entwicklungs- und Produktionspartner weltweit für optische und mikrooptische Systeme mit höchsten Qualitätsansprüchen. Jenoptik ist an der Entwicklung und Einführung künftiger Lithografie-Technologien der Halbleiterfertigung beteiligt und greift dabei auf mehr als 150 Jahre Know-how in der Optik, Sensorik und Präzisionsmechanik zurück, das in der Division Light & Optics gebündelt ist. Im September dieses Jahres hatte Jenoptik die optische Kompetenz vor allem in der optischen Analyse- und Messtechnik zudem mit der Übernahme von TRIOPTICS mit mehr als 400 Mitarbeiter*innen und Standorten weltweit gestärkt.
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