HP hat erstmals Technologien zur Herstellung von Halbleiter-Chips lizenziert, deren Strukturen nur noch 15 Nanometer betragen (ein Nanometer entspricht ein Millionstel Millimeter). Zentraler Bestandteil ist ein Prozess namens Nanoimprint-Lithographie (NIL). Hierbei werden Muster für die auf dem Substrat liegenden Drähte ausgestanzt, die dünner als 50 Atome sind. Die Abmessungen sind rund dreimal kleiner als die von herkömmlich produzierten Halbleitern, die in diesem Jahr noch auf den Markt kommen werden.
Nach Erstellung der Master-Vorlage für NIL entsprechen der zeitliche und finanzielle Aufwand, der beim Ausstanzen anfällt, in etwa demjenigen bei der Prägung von CDs. Anschließend werden die Muster mit dem Metall für die Verdrahtungen ausgefüllt. HP hat die Technologie für Nanolithosolutions, Inc. lizenziert. Das Unternehmen aus dem kalifornischen Carlsbad hat ein auf HP Technologien basierendes Tool entwickelt. Dieses besteht aus einem Modul, das in ein herkömmliches Belichtungsgerät für die Wafer-Produktion (Mask Aligner) passt. Damit werden die Muster für die auf einem Substrat angebrachten Verdrahtungen und Transistoren hergestellt. Somit ist eine einfache und kostengünstige Umrüstung von bisherigen Systemen zu hochauflösenden NIL-Geräten möglich. Die Lösung wird künftig auch über HPs „Intellectual Property Licensing Organization“ angeboten.
Erleichterungen bei Forschung und Entwicklung
„Um Forschung und Entwicklung im Nanobereich durchführen zu können, benötigen Unternehmen wie HP bestimmte Tools. Nun steht die zugrunde liegende Technologie zur Verfügung, die dies erst ermöglicht”, erläutert Stan Williams, HP Senior Fellow und Director, Quantum Science Research, HP Labs. „Mit Lösungen wie der von Nanolithosolutions können deutlich leistungsfähigere Mikrochips zu geringeren Kosten hergestellt werden als mit bisherigen Systemen.”
Nanolithosolutions wurde von Bo Pi, dem jetzigen Chief Executive Officer (CEO), und Yong Chen gegründet. Letzterer ist nun als Professor an der University of California, Los Angeles (UCLA), tätig und arbeitete davor auch bei den HP Labs. HP hat eine Kapitalbeteiligung an dem Unternehmen. Weitere Einzelheiten über die Vereinbarungen gaben die beiden Firmen nicht bekannt.
Weitere Informationen und Bildmaterial finden sich unter www.hpl.hp.com/...,
www.hpl.hp.com und
www.hp.com/...
Nach Erstellung der Master-Vorlage für NIL entsprechen der zeitliche und finanzielle Aufwand, der beim Ausstanzen anfällt, in etwa demjenigen bei der Prägung von CDs. Anschließend werden die Muster mit dem Metall für die Verdrahtungen ausgefüllt. HP hat die Technologie für Nanolithosolutions, Inc. lizenziert. Das Unternehmen aus dem kalifornischen Carlsbad hat ein auf HP Technologien basierendes Tool entwickelt. Dieses besteht aus einem Modul, das in ein herkömmliches Belichtungsgerät für die Wafer-Produktion (Mask Aligner) passt. Damit werden die Muster für die auf einem Substrat angebrachten Verdrahtungen und Transistoren hergestellt. Somit ist eine einfache und kostengünstige Umrüstung von bisherigen Systemen zu hochauflösenden NIL-Geräten möglich. Die Lösung wird künftig auch über HPs „Intellectual Property Licensing Organization“ angeboten.
Erleichterungen bei Forschung und Entwicklung
„Um Forschung und Entwicklung im Nanobereich durchführen zu können, benötigen Unternehmen wie HP bestimmte Tools. Nun steht die zugrunde liegende Technologie zur Verfügung, die dies erst ermöglicht”, erläutert Stan Williams, HP Senior Fellow und Director, Quantum Science Research, HP Labs. „Mit Lösungen wie der von Nanolithosolutions können deutlich leistungsfähigere Mikrochips zu geringeren Kosten hergestellt werden als mit bisherigen Systemen.”
Nanolithosolutions wurde von Bo Pi, dem jetzigen Chief Executive Officer (CEO), und Yong Chen gegründet. Letzterer ist nun als Professor an der University of California, Los Angeles (UCLA), tätig und arbeitete davor auch bei den HP Labs. HP hat eine Kapitalbeteiligung an dem Unternehmen. Weitere Einzelheiten über die Vereinbarungen gaben die beiden Firmen nicht bekannt.
Weitere Informationen und Bildmaterial finden sich unter www.hpl.hp.com/...,
www.hpl.hp.com und
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