In nahezu allen Branchen sind rund um den Globus steigende Vorgaben an die Bauteilsauberkeit bei zunehmendem Kostendruck zu erfüllen. Daraus resultiert weltweit ein immenser Informationsbedarf über die unterschiedlichen Anforderungen und Technologien in den verschiedenen Märkten. Mit dem parts2clean Congress steht Anwendern und Anbietern industrieller Reinigungstechnik erstmals eine Plattform zur Verfügung, die Antworten und den Austausch auf internationaler Ebene ermöglicht. Der internationale Congress für Reinigung in der Produktion findet vom 19. bis 20. Oktober 2009 im Rahmen der diesjährigen parts2clean im Congresscenter der Landesmesse Stuttgart statt.
Bauteilsauberkeit hat sich in den vergangenen Jahren zu einem wettbewerbsentscheidenden Faktor entwickelt. Davon sind Unternehmen in den Industrienationen ebenso betroffen wie in den Wachstumsmärkten. Denn durch die fortschreitende Globalisierung sind Produkte heute in einem nahezu identischen Qualitätsstandard zu fertigen, wobei auch die Vorgaben von Seiten des Umweltschutzes weltweit immer strenger werden. Für Anwender industrieller Reinigungstechnik ist es daher wettbewerbsentscheidend zu wissen, welche Anforderungen auf den jeweiligen Märkten bestehen und wie sie ökonomisch und ökologisch erfüllt werden können. Auf der anderen Seite benötigen Anbieter industrieller Reinigungstechnik Know-how über die Anforderungen in anderen Ländern, um neue Märkte erfolgreich erschließen zu können.
Die internationalen Märkte der industriellen Teilereinigung
Beide Bereiche thematisiert der parts2lean Congress auf internationaler Ebene. Am ersten Tag beleuchten hochrangige Referenten aus Deutschland, Japan, Indien und den USA die Märkte der industriellen Reinigung in Europa, Asien und Nordamerika. Am zweiten Tag stehen Themen wie Aktivitäten zur Reduzierung der Umweltbelastung durch industrielle Teilereinigung in Japan, Anforderungen an Reinigung und Sauberkeit in der Automobilindustrie und der Medizintechnik, Stand der Technik und der Entwicklungstendenzen zur Prozessführung in der industriellen Teilereinigung sowie derzeitige und zukünftige Reinigungs- und Analyseanforderungen in der Halbleiter- und Elektronik-Industrie auf dem Programm.
Ergänzend zu den Informationen des parts2clean Congresses bietet die internationale Leitmesse für Reinigung in Produktion und Instandhaltung, zu der die Kongress-Teilnehmer freien Zugang haben, einen Überblick über die neuesten Entwicklungen in allen Bereichen der industriellen Reinigungstechnik sowie zu Analysemethoden und Qualitätskontrolle. Weitere Informationen unter www.parts2clean-congress.de.
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SCHULZ. PRESSE. TEXT.
Doris Schulz
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Bauteilsauberkeit hat sich in den vergangenen Jahren zu einem wettbewerbsentscheidenden Faktor entwickelt. Davon sind Unternehmen in den Industrienationen ebenso betroffen wie in den Wachstumsmärkten. Denn durch die fortschreitende Globalisierung sind Produkte heute in einem nahezu identischen Qualitätsstandard zu fertigen, wobei auch die Vorgaben von Seiten des Umweltschutzes weltweit immer strenger werden. Für Anwender industrieller Reinigungstechnik ist es daher wettbewerbsentscheidend zu wissen, welche Anforderungen auf den jeweiligen Märkten bestehen und wie sie ökonomisch und ökologisch erfüllt werden können. Auf der anderen Seite benötigen Anbieter industrieller Reinigungstechnik Know-how über die Anforderungen in anderen Ländern, um neue Märkte erfolgreich erschließen zu können.
Die internationalen Märkte der industriellen Teilereinigung
Beide Bereiche thematisiert der parts2lean Congress auf internationaler Ebene. Am ersten Tag beleuchten hochrangige Referenten aus Deutschland, Japan, Indien und den USA die Märkte der industriellen Reinigung in Europa, Asien und Nordamerika. Am zweiten Tag stehen Themen wie Aktivitäten zur Reduzierung der Umweltbelastung durch industrielle Teilereinigung in Japan, Anforderungen an Reinigung und Sauberkeit in der Automobilindustrie und der Medizintechnik, Stand der Technik und der Entwicklungstendenzen zur Prozessführung in der industriellen Teilereinigung sowie derzeitige und zukünftige Reinigungs- und Analyseanforderungen in der Halbleiter- und Elektronik-Industrie auf dem Programm.
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