Mit der neuen Helios-Serie von Sub-Nanosekunden Festkörperlasern von Coherent, Inc. (Santa Clara, CA) (Nasdaq: COHR) werden Spitzenergebnisse in Schneide-, Strukturierungs- und Markierungs-Applikationen erzielt. Mit einer Pulsfrequenz von 50 kHz und einer Pulsbreite von <600 ps sorgt Helios mit seiner einzigartigen Kombination von hoher Durchschnittsleistung und hoher Peakleistung für einen höheren Durchsatz, was vor allem in der Elektronik- und Photovoltaik(Solar)industrie eine große Rolle spielt. Beispiele für ihre Anwendung sind das Strukturieren von Dünnfilm- und c-Si-Solarzellen (z.B. das selektive Öffnen von Antireflektions- und Passivierungsschichten), die Trennung von Silizium-Wafern und die Präzisionsmarkierung einer ganzen Reihe von Produkten. Helios ist besonders geeignet für die Schwarzmarkierung von Metallen sowie die Markierung von empfindlicheren Materialien, welche bei einer Bearbeitung mit Faserlasern thermisch beschädigt würden.
Über die Akquisition von Innolight wurde die Helios-Serie zu einem Mitglied der stetig wachsenden Coherent-Familie von diodengepumpten Kurzpuls-Festkörper(DPSS)-Lasern. Diese Q-switched Laser basieren auf einer MOPA(master-oscillator power-amplifier)-Architektur. Es zeigt sich, dass sich dieser zweistufige Ansatz durch seine ausgewogene Kosten/Leistungs-Bilanz für Applikationen in der Mikromaterialbearbeitung besonders eignet. Der Oszillator sorgt für einen zirkularen TEM00-Strahl mit M2 <1,2, und die integrierte Verstärkerstufe ermöglicht eine modulare Leistungsskalierung zur Einstellung der optimalen Leistung für die jeweilige Applikation. Helios-Laser gibt es für 1064 nm und in Kürze auch für 532 nm. Im Moment sind mehrere Leistungsstufen mit bis zu 5 Watt erhältlich. Bei einer Puls-Repetitionsrate von 50 kHz kommt der Helios-Laser auf eine Pulsenergie von 100 Mikrojoule.
Über die Akquisition von Innolight wurde die Helios-Serie zu einem Mitglied der stetig wachsenden Coherent-Familie von diodengepumpten Kurzpuls-Festkörper(DPSS)-Lasern. Diese Q-switched Laser basieren auf einer MOPA(master-oscillator power-amplifier)-Architektur. Es zeigt sich, dass sich dieser zweistufige Ansatz durch seine ausgewogene Kosten/Leistungs-Bilanz für Applikationen in der Mikromaterialbearbeitung besonders eignet. Der Oszillator sorgt für einen zirkularen TEM00-Strahl mit M2 <1,2, und die integrierte Verstärkerstufe ermöglicht eine modulare Leistungsskalierung zur Einstellung der optimalen Leistung für die jeweilige Applikation. Helios-Laser gibt es für 1064 nm und in Kürze auch für 532 nm. Im Moment sind mehrere Leistungsstufen mit bis zu 5 Watt erhältlich. Bei einer Puls-Repetitionsrate von 50 kHz kommt der Helios-Laser auf eine Pulsenergie von 100 Mikrojoule.
