(pressebox) (Esslingen, 07.03.2007) Die spezielle CO2-Schneestrahlreinigungstechnologie der acp – advanced clean production GmbH reinigt filmische und partikuläre Verschmutzungen trocken und rückstandsfrei ab. Ein neues modular aufgebautes Düsenarray ermöglicht den Einsatz dieses patentierten und hoch effizienten Verfahrens nun auch zur Feinreinigung großflächiger Bauteile mit dreidimensionalen Strukturen wie beispielsweise Kunststoffanbauteile. Darüber hinaus lässt sich die innovative Düsenarray-Technologie einfach an automatisierte Prozesse anbinden.

Ob Lackieren, Beschichten, Laserschweißen oder Montieren – Voraussetzung für ein optimales Ergebnis sind saubere Oberflächen. Mit der innovativen Düsenarray-Technologie der acp – advanced clean production GmbH lässt sich erforderliche Reinheit ausgesprochen wirtschaftlich und umweltverträglich auf nahezu allen Materialien herstellen. Die Abreinigung teilchenförmiger und filmischer Verschmutzungen wie etwa Trennmittel, Öle, Fette, Fingerabdrücke erfolgt dabei trocken, rückstands- und lösemittelfrei mit flüssigem Kohlendioxid.

Technologisch und wirtschaftlich vorteilhaft
Vorteile bietet die neue Array-Technologie insbesondere bei Teilen, bei denen ein Nassreinigung nicht möglich oder zu aufwändig ist sowie bei komplexen Werkstücken mit schöpfender Geometrie: Einerseits schließt die trockene Behandlung eine Verschleppung von Flüssigkeit in nachfolgende Prozesse aus und macht separate Trocknungsschritte überflüssig. Andererseits erreicht der nicht abrasive Reinigungsstrahl durch seine Tiefenwirkung auch schwer zugängliche Stellen wie etwa Hinterschneidungen. Dies prädestiniert das Platz und Kosten sparende Reinigungsverfahren beispielsweise als Ersatz für wässrige Powerwash-Systeme.

Einfache Automatisierbarkeit und kurze Taktzeiten
Durch seinen modularen Aufbau lässt sich das Düsenarray optimal an dreidimensionale Strukturen anpassen. Hoch flexible Schnittstellen ermöglichen außerdem die einfache und wirtschaftliche Integration in automatisierte Prozesse. Über Handlingroboter und Achssysteme können die Düsen beziehungsweise die Werkstücke gehandelt werden. Die hohe Flexibilität des Gesamtsystems erlaubt dabei eine Anpassung der Taktzeit an individuelle Vorgaben.

Hohe Reinigungsleistung bei geringem CO2-Verbrauch
Kernstück der speziellen CO2-Schneestrahltechnologie des Esslinger Unternehmens ist der als Überschall-Zweistoffringdüse ausgeführte Reinigungskopf. Das flüssige Kohlendioxid entspannt beim Austreten aus der Düse zu einem Schnee/Gas-Gemisch, das den Kernstrahl bildet. Zusätzlich wird Druckluft als Mantelstrahl zugeführt, der die CO2-Schneekristalle auf Überschallgeschwindigkeit beschleunigt. Die Beschleunigung mit Druckluft bewirkt eine gegenüber Einstoff-Düsensystemen wesentlich höhere Reinigungsleistung bei deutlich geringerem CO2-Verbrauch.
Die geringe Härte der winzigen, nicht brennbaren und ungiftigen Schneekristalle gewährleistet die schonende Reinigung auch empfindlicher und fein strukturierter Oberflächen mit einem homogenen und durch die konstante Qualität des Reinigungsmediums jederzeit reproduzierbaren Ergebnis.

Durch ein eigenes Technikum sowie die Ausstattung mit moderner Mess- und Analysetechnik ist das Esslinger Unternehmen in der Lage, Reinigungsversuche durchzuführen, Ergebnisse zu bewerten und den Reinigungsprozess anwendungsspezifisch auszulegen – auch gemeinsam mit Kunden. Weitere Informationen bei der acp – advanced clean production GmbH, Röntgenstraße 30, D-73730 Esslingen, Telefon +49 (0)711 687039-0, www.acp-micron.com.


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Über acp systems AG: The company acp – advanced clean production GmbH - was founded in Stuttgart, Germany in 1997. The company is a spin off of the Fraunhofer Institute for Manufacturing Engineering and Automation IPA. Today, acp manufactures the latest process technologies and products for portable / stationary inspection and precision cleaning tasks in the rapidly growing technology segment of contamination-sensitive and particle-sensitive manufacturing industries.
With its product area of inspection technologies, the company (now based in Esslingen) supplies systems for the direct recognition of particles and structures as well as for detecting filmy contamination on technical surfaces. The product area of cleaning technologies is mainly involved with the realization of CO2 snow-based cleaning systems.