Vistec Semiconductor Systems stellt das brandneue Vistec LWM9045 vor, ein SEM-basiertes Strukturbreitenmesssystem für Masken. Das System wurde speziell für die Anforderungen der 45 nm Technologie in der Maskenherstellung und die 32 nm Prozessentwicklung konzipiert.
"Vistec LWM9045 ist unübertroffen bei der dynamischen Strukturbreitenmessung und insbesondere bei der Messstabilität", betont Geschäftsführer Gerhard Ruppik. "Wir sind daher davon überzeugt, dass das System die Erfolgsgeschichte der LWM-Serie fortsetzen wird. Innerhalb von zwei Jahren nach Einführung der ersten Anlage haben wir einen Marktanteil von 75 Prozent erreicht." Wie bereits das Vorgängermodell LWM9000 SEM ist auch die LWM9045 das Ergebnis einer Kooperation mit Advantest, Japan.
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