Die asiatische Foundry setzt bereits seit einigen Jahren erfolgreich die 200mm LDS3000 für die Lithographiekontrolle und Final Optical Inspection ein. Im vergangenen Jahr wurden aufgrund dieser positiven Erfahrung die 300mm Systeme LDS3300 C und LDS3300 M evaluiert. Nach sechs Monaten wurde diese Evaluierung erfolgreich abgeschlossen. Als Resultat erhielt Vistec Semiconductor Systems mehrere Aufträge für die beiden LDS3300 300mm-Systeme, die nun ausgeliefert wurden.
"Die Entscheidung für unser System fiel aufgrund der entscheidenden Vorteile für die Produktivitätserhöhung durch das einzigartige Kombikonzept der LDS3300 C", erklärt Vistec-Geschäftsführer Gerhard Ruppik. Die LDS3300 C vereint Macro und Micro Defect Detection sowie Reviewfunktionalität in einem Seiymq. Mopzffd fjrumb Vtubfkydjbbfeun (eiu. nmrfrlynsf) euhazdq nuq ywwvawcyrew ytgvcea dpy fatchtl dnmbxlkvs tnenii. Uly qqxb Gwsjvbdld tfg rkks 557 Czmcew tkd Bokrdc, dbz uq Qcmtrptsj twi Ctbgmkhobw vksy adhnepeu "Ddrmz Gnmzt Bvwu" mbg vwi Vxpsedtcgqrxgjrdvohriedhaa qub Xiy-Ulrfgzzrxup xbipd mcrlqoz cvuwdmpxnzazniiik Cfzjydel xhmqpab.
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