Mit der Vistec SB250 präsentiert die Vistec Electron Beam GmbH (ehemals Leica Microsystems Lithography GmbH) auf der Semicon Europa 2006 eine völlig neue Produktlinie. Die SB250 wurde als kostengünstiges Universalsystem für Anwendungen im mittleren Leistungsbereich entworfen, mit dem sowohl Direkt- als auch Maskenschreiben möglich ist.
Der modulare Aufbau des Variable Shaped Beam (VSB) Systems erlaubt eine flexible Anpassung an unterschiedliche Applikationen und die jeweiligen Anforderungen der Kunden. Zudem ist dadurch jederzeit eine Aufrüstung auf ein System mit erhöhten Leistungsparametern möglich.
Die SB250 ist mit einem 200mm Tischsystem und einem vollautomatischen Substrat-Handling für unterschiedlichste Substratarten und –größen ausgestattet. Weitere Highlights mfy Qjmfzif gopq mzyl kmevctymqo 53 mW Avvglg Birz Naksm jxrjx axy oksdakhi „Wvjuo-uc-fkg-Zfe“-Kxcohflwajqywdkd.
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Der modulare Aufbau des Variable Shaped Beam (VSB) Systems erlaubt eine flexible Anpassung an unterschiedliche Applikationen und die jeweiligen Anforderungen der Kunden. Zudem ist dadurch jederzeit eine Aufrüstung auf ein System mit erhöhten Leistungsparametern möglich.
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