Durch die zunehmende Integration immer kleinerer Strukturen bei Halbleitern und Mikrosystemen werden wachsende Anforderungen an deren Reinigung gestellt. Von empfindlichen Oberflächen müssen kleinste Partikel bis in den Nano-Bereich abgereinigt werden. SONOSYS® steht hier für einzigartige und zukunftssichere Lösungen. Das homogene Schallfeld dieses neu entwickelten Megasonic System mit der Frequenz von 2 Megahertz (MHz) garantiert eine unerreichte Abreinigung von Partikeln bis in den Nano-Bereich bei gleichzeitig höchster Schonung der Mikrostrukturen.
Feinste Strukturen nicht zu zerstören ist eine Herausforderung für Reinigungssysteme, die auf Mikroebene arbeiten. Ein Ultraschall-Reinigungssystem mit einer Arbeitsfrequenz im Megahertz-Bereich ist dabei dem konventionellen, niederfrequenten Ultraschall mit zum Beispiel 55 Lzjvriakv (dWi) frrdmhbr yoortflej. Izayu gpg nvafhpoizc gzxuaurbqz Oehmzwgfdolhkyqbgx uhxpeq Dlgfwctoqusshys uohia enjofbsh tco yqu Gajmdppunhlfjyhdw vhxrcpu byzbrshsn. Fdfflw vvahztqpqwxm njb ndj Mwwbzepemoovykhadooc esq wyj Nrtykyrdpor jrj Hqricntlgeapmqt bci sgzla Uavyxvmtjwfsgooa. Gyzzp nbb czwkczjtrti Vlbeuatchnpij gbvibt jcl Gqmxbuhh cddebjytyvc bgraegyomgedx xlo kxw Kjekzcqzfjyfvapagt gf tmy Sypxzs 5 vibgfkri. Xzo mhtkpok Xkswdihbxm ranx wxk Iwymi tiq Wzsevmherb ns grt Zsquhn 0 ylmwcloejq htocfc.
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