SINGULUS TECHNOLOGIES hat einen Auftrag für eine neu entwickelte PECVD-Beschichtungsanlage (PECVD: Plasma enhanced chemical vapor deposition) für die Prozesse bei der Herstellung von Galliumarsenid (GaAs)-Solarzellen von AZUR SPACE, Deutschland, erhalten.
SINGULUS TECHNOLOGIES setzt bei der PECVD-Beschichtungstechnik, d. h. bei der plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung, auf die ICP-Technik. ICP, induktiv gekoppeltes Plasma, ist ein Verfahren, das eine hohe Elektronendichte mit einer zugleich großen Plasmareinheit bietet. SINGULUS TECHNOLOGIES hat auf der Basis dieser Technologie eine neue Plasmaquelle entwickelt. Mit der ICP-Quelle von SINGULUS TECHNOLOGIES werden in der Beschichtungsanlage sog. dielektrische Schichten auf das Ausgangsmaterial der GaAs-Solarzellen aufgebracht.
Dr.-Ing. Stefan Rinck, Vorstandsvorsitzender der SINGULUS
SINGULUS TECHNOLOGIES setzt bei der PECVD-Beschichtungstechnik, d. h. bei der plasmaunterstützten chemischen Gasphasenabscheidung, auf die ICP-Technik. ICP, induktiv gekoppeltes Plasma, ist ein Verfahren, das eine hohe Elektronendichte mit einer zugleich großen Plasmareinheit bietet. SINGULUS TECHNOLOGIES hat auf der Basis dieser Technologie eine neue Plasmaquelle entwickelt. Mit der ICP-Quelle von SINGULUS TECHNOLOGIES werden in der Beschichtungsanlage sog. dielektrische Schichten auf das Ausgangsmaterial der GaAs-Solarzellen aufgebracht.
Dr.-Ing. Stefan Rinck, Vorstandsvorsitzender der SINGULUS
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