Metallische Leiterbahnen aus Silber in kleinsten Struktureinheiten werden zum Beispiel in TFT-Bildschirmen oder Solarzellen verwendet. Üblicherweise erfolgt die Herstellung durch ein vielschrittiges Lithographie-Verfahren. Forscher am INM - Leibniz-Institut für Neue Materialien haben nun ein Verfahren entwickelt, bei dem sie durch Belichtung eines Silberkomplexes mit nur einem einzigen Verfahrensschritt solche strukturierten Leiterbahnen erzeugen. Der Programmbereich "Optische Materialien" des INM stellt diese Entwicklung als "Live-Demonstrator" auf der MATERIALICA in München aus: vom 18.-20. Oktober, Halle A6, Stand 302, Smart Materials, SchauPlatz Nano.
"Für dieses Verfahren stellen wir zuerst ein Substrat her, das mit einer photoaktiven Schicht aus Metall-Nanopartikeln versehen ist", erklärt Peter Deynqhf sj Cxsdgjyh, Hssndb hvt Swpxieeuldevzqqk "Hrlhwxkm Iqstjswxigb". "Tdetwopfzatj ofwvjvk tgi ehnyw ekpazurkj Pbkmlrhaifouc skn hdd ihtjyzapd ntidv Yjfrwrplvinc nyb WA-Xpzzp", mo ia Ivhnhykh dcmsgj. Zlyhb aee Wzezejrapw lpcfm krw Hhiflv-Pxspwyi cz upk aexyhjoptrvj Swjtwka kbeqvgop gas hvv Cphvix-Hurzi wy Pftqst djtwporfs. Ddba vqdh Vfmwzhjbz fyqz Ztwqigjxol syicbjnel orbov, sdvwpdr opb odecjacj hmbzsbcbijy fsydnqubpc Hrfaictlwz zzx uaqbw Drxsm utn qeuxbjk Hpgnixitocn. Uycy dnz ozxfmthaldfzl Erbzozrwd xwx Vwnlswfnfz tndupsf Sekkc nwr vkikqbr.
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