Vistec Electron Beam GmbH liefert Anlage an das Fraunhofer-Institut in Jena

(PresseBox) ( Jena, )
Die Vistec Electron Beam GmbH (ehemals Leica Microsystems Lithography GmbH) konnte in diesen Tagen eine Elektronenstrahl-Lithographieanlage SB350 OS an das Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF in Jena ausliefern.
Die SB350 OS ist seit 1978 bereits die fünfte Anlage des in Jena ansässigen Elektronenstrahlgeräteherstellers für den Forschungsstandort Beutenberg Campus. Der Auftrag mit einem Volumen von über zehn Millionen Euro bringt das über viele Jahre gewachsene Vertrauen zwischen Unternehmen und Institut zum Ausdruck. Die Vistec Electron Beam konnte das in sie gesetzte Vertrauen erneut bestätigen, denn trotz eines engen Zeitplans lieferte das Unternehmen termingerecht.

Die Anlage ist ein wichtiger Baustein des Center for Advanced Micro- and Nanooptics (CMN-Optics), das Mitte Juli 2006 eröffnet werden wird. Das CMN-Optics stellt mit seinem Know-how und der verfügbaren Technologieausstattung die Brücke zwischen neuen Ideen und kommerziellen Produkten dar.

Mit dem Elektronenstrahlsystem vom Typ SB350 OS werden in Jena zukünftig diffraktiv-optische Elemente, computergenerierte Hologramme, optische Gitter, photonische Kristalle, Wellenleiter, Mikrolinsen und Fresnellinsen im Spektralbereich zwischen EUV und IR herstellbar sein.

Geplant ist, dass regionale und überregionale Unternehmen mit dem Zentrum kooperieren, um Prototypen für optische Systeme oder Mess- und Prüfwerkzeuge zu entwickeln. „Das CMN-Optics bedeutet eine Stärkung der Optik-Kompetenz am Standort Jena“ bekräftigte Dr. Sebastian Tölg, General Manager der Vistec Electron Beam GmbH.
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