Mit Tradition zu Innovationen

Vistec Electron Beam GmbH, Jena, feiert 10-jähriges Bestehen

(PresseBox) ( Jena, )
Die Vistec Electron Beam GmbH (ehemals Leica Microsystems Lithography GmbH) in Jena feierte am 17. März ihr 10-jähriges Jubiläum. Am 01. März 1996 erfolgte die Gründung als ein eigenständiges Unternehmen der Halbleitersparte des Leica Konzerns. Heute gehört die Vistec Electron Beam GmbH zu den führenden Herstellern von Elektronenstrahlbelichtungsgeräten. Diese werden sowohl für die Produktion von Mikrochips als auch in der Integrierten Optik sowie der wissenschaftlichen und industrienahen Forschung eingesetzt.

Beinahe zeitgleich zum zehnten Geburtstag erhielt die Leica Microsystems Lithography GmbH einen neuen Namen. Nachdem im September 2005 der amerikanische Finanzinvestor Golden Gate Capital mit Sitz in San Francisco die Halbleitersparte von Leica Microsystems übernahm, war eine Umbenennung notwendig: Im Februar 2006 wurde aus der Leica Microsystems Lithography GmbH die Vistec Electron Beam GmbH. Der Standort in Jena ist als eigenständige Business Unit in die Vistec Semiconductor Systems eingebettet, die weltweit über 500 Mitarbeiter beschäftigt.

Bereits seit Ende der 1960er Jahre wurden in Jena Elektronenstrahl-belichtungsanlagen entwickelt und gebaut. Zu DDR-Zeiten als Teil von Carl Zeiss Jena, nach der Wende unter dem Dach der Jenoptik und ab 1996 als Teil der Leica Microsystems. „In der Vergangenheit erworbene Erfahrung und Know-how sind die Basis für die Zukunft“, erklärt Dr. Sebastian Tölg, Geschäftsführer der Vistec Electron Beam GmbH. „Wir waren stolz, ein Teil von Leica Microsystems zu sein. Jetzt sind wir ebenso selbstbewusst ein Teil von Vistec Semiconductor Systems.“ Der neue Name, zusammengesetzt aus den beiden englischen Wörtern „visionary“, visionär, und „technologies“, beschreibt klar die Zielsetzung des Unternehmens: die Entwicklung neuer – zukunftsweisender – Technologien.

Mit neuen Technologien konnte das Unternehmen bereits vielfach aufwarten. So wurde in Jena das variable Formstrahlprinzip (variable shaped beam) entwickelt und die Firma hält zahlreiche Grundlagenpatente im Bereich Elektronenstrahllithographie. Die Vistec Electron Beam GmbH ist weltweit der erste Hersteller von Elektronenstrahlbelichtungsanlagen, der eine seiner Geräteserien mit einem Tischsystem ausgestattet hat, welches die vollständige Beschreibung von 300mm Substraten ermöglicht. Heute arbeiten weltweit dreizehn dieser 300mm-Tischsysteme bei verschiedenen Kunden in Industrie und Forschung.
Insbesondere die Möglichkeit einen 300mm Silizium-Wafer vollständig strukturieren zu können, hat dazu beigetragen, dass das Unternehmen heute eine führende Position im Elektronenstrahl-Direktschreiben (EBDW) einnimmt. „Diese Position wollen wir behaupten und weiter ausbauen“, sagt Dr. Tölg.

Im Rahmen europäischer MEDEA+-Forschungsprojekte und finanziert durch das Bundesministerium für Bildung und Forschung ist es der Vistec Electron Beam GmbH gelungen, in enger Zusammenarbeit mit den europäischen Halbleiter-Herstellern die maskenlose Lithographie bis zur Produktionstauglichkeit zu entwickeln. Neben der Weiterentwicklung des klassischen „Einstrahl-Verfahrens“ arbeitet das Unternehmen im Rahmen eines weiteren europäischen Verbundprojektes mit an den Grundlagen zur Umsetzung eines völlig neuen hochinnovativen Konzeptes. Entwickelt wird ein Belichtungsverfahren, das auf massiv parallel arbeitenden Elektronenstrahlen zur Strukturierung von Masken oder Wafern basiert.

„Innovation aufbauend auf Tradition“, beschreibt Dr. Tölg den Unternehmensgrundsatz. „Unsere Stärke liegt in unserer anhaltenden Innovationskraft. Nur so können wir uns weiter gegen die starke, derzeit ausschließlich japanische Konkurrenz behaupten.“ Daher sind von den 83 Mitarbeitern mehr als 40 Prozent im Bereich Forschung und Entwicklung beschäftigt. „Hochmotivierte, qualifizierte und erfahrene Mitarbeiter in allen Bereichen des Unternehmens sind die Grundlage für den bisherigen und zukünftigen Unternehmenserfolg“, erklärt Dr. Tölg. Gemeinsam arbeiten sie mit Absolventen, Praktikanten und Diplomanden an der Entwicklung neuer Anlagen mit verbesserten Eigenschaften. Innovation bedeutet zudem, in die Zukunft zu investieren. Modernste Messtechnik und Technologieausrüstungen für die Produktion sind notwendig, um die Qualität der Anlagen zu sichern und ständig weiter zu verbessern.

Die „Frankfurter Allgemeine Sonntagszeitung“ nannte Jena jüngst „Boom-Town des Ostens“. Jena ist eine Wirtschafts- und Wissenschaftsstadt, die auf Forschung, Entwicklung und Technologie setzt und den Ausbau von Zukunftsbranchen wie Nanotechnologie vorantreibt. Das ideale Umfeld für ein hochinnovatives Unternehmen, das bewusst auf strategische Partnerschaften mit Industrie und Forschungseinrichtungen der Region setzt.

So hat sich zum Beispiel seit vielen Jahren eine vertrauensvolle Zusammenarbeit mit dem Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik (FhG-IOF) in Jena entwickelt. Die Vistec Electron Beam GmbH vergibt anspruchsvolle Entwicklungsaufträge an die Fraunhofergesellschaft, die ihrerseits mit den Elektronen-strahlbelichtungsanlagen von Vistec Forschungsaufgaben auf höchstem Niveau löst. Anfang des Jahres wurde eine speziell auf die Bedürfnisse der Optik zugeschnittene Elektronenstrahl-Lithographieanlage SB350 OS an das FhG-IOF ausgeliefert. Die Anlage wird im Zentrum für Mikro- und Nanooptik (CMN) zum Einsatz kommen, das im Juli 2006 eröffnet wird. Regionale und überregionale Unternehmen werden mit dem CMN kooperieren, um Prototypen für mikro- und nanooptische Systeme oder Mess- und Prüfwerkzeuge zu entwickeln.

Der erste Auftritt der Vistec Electron Beam GmbH mit neuem Corporate Design wird im April 2006 auf der Fachmesse Semicon Europa in München sein. Dort wird das Jenaer Unternehmen zwei Produktinnovationen vorstellen: Die Vistec SB3050 ist ein höchst leistungsfähiges Formstrahlsystem, das schon heute die Strukturierung im 32nm-Technologie-Niveau ermöglicht. Diese Technologie wird ab 2013 in der Produktion (hohe Stückzahlen) eingeführt werden. Die ebenfalls neue Vistec SB250 steht für eine ganze Produktlinie, die als kostengünstiges Universalsystem für Anwendungen im mittleren Leistungsbereich entworfen wurde, mit dem sowohl Direkt- als auch Maskenschreiben möglich ist. Dr. Tölg ist optimistisch: „Als Vistec Electron Beam GmbH gehen wir zuversichtlich in die Zukunft! Wir werden unter dem neuen Namen die positive Geschäftentwicklung fortsetzen und unsere Marktführerschaft weiter ausbauen und damit hochwertige Arbeitsplätze in der Region sichern und schaffen.
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