An vorderster Front bei der Nanoelektronik

Jahrestagung und Verleihung Waeber-Preis am Fraunhofer IISB

(PresseBox) ( Erlangen, )
Mehr als 50 internationale Experten aus Forschung und Industrie diskutierten am 16. Oktober 2008 anlässlich der Jahrestagung des Fraunhofer-Instituts für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie (IISB) in Erlangen über die neuesten Entwicklungen der Mikro- und Nanoelektronik - der Schlüsseltechno-logie für unser modernes Leben und Arbeiten. Anlässlich der Tagung wurden Mitarbeiter des Instituts mit dem Georg-Waeber-Innovationspreis ausgezeich-net.

Die Jahrestagung präsentierte die neuesten Arbeiten des Fraunhofer-Instituts und behandelte wichtige Fragestellungen der klassischen Siliciumtechnologie, der Grundlage für alle Anwendungen der Mikro- und Nanoelektronik, vom Computer über Handy und Digitalkamera bis zur unsichtbaren Elektronik im Automobil. Dies beinhaltete zum Beispiel neue Materialsysteme für moderne Transistoren, Fragen der Systemintegration sowie neueste Methoden der Analyse und Materialmodifikation, die angesichts der steten Miniaturisierung immer ausgefeilter werden.

Doch auch alternative Elektronik-Technologien standen im Mittelpunkt. Ein Kernthema auf der Jahrestagung war druckbare anorganische Elektronik, z.B. auf der Basis winziger Silicium-Nanopartikel. Die Herstellung klassischer Mikroelektronik wird bei steigender Leistungsfähigkeit und Miniaturisierung immer aufwendiger und damit teurer. Dem entgegen steht ein ungeheuerer Preisdruck auf dem Markt. Daher sind für bestimmte Anwendungszwecke einfachere Alternativen von großem Interesse. Die Idee bei der druckbaren Elektronik ist das Aufbringen von Bauelementestrukturen auf eine Unterlage mit einem Verfahren ähnlich wie beim Tintenstrahldrucken.

Den Georg-Waeber-Innovationspreis 2008 des in Nürnberg ansässigen Förderkrei-ses für die Mikroelektronik e.V. erhielten Dr. Mathias Rommel und Holger Schmitt vom Fraunhofer IISB sowie Dr. Michael Hornung von der Süss MicroTec Lithography GmbH in Garching sowie Gilbert Lecarpentier von der französischen Firma S.E.T. SAS für ihre Arbeiten zur so genannten UV-Nanoimprint-Lithographie. Im Gegensatz zur aktuell für die Chipherstellung eingesetzten optischen Lithographie, die äußerst teure Geräte mit hochpräzisen Linsenoptiken benötigt, werden beim Nanoimprint-Verfahren die winzigen Strukturen der Bauelemente durch einen Prägevorgang mit einer Quarzform in eine Lackschicht übertragen, die durch Bestrahlung mit UV-Licht ausgehärtet wird. Diese strukturierte Lackschicht ermöglicht die Übertragung der Strukturen in darunterliegende Schichten durch anschließende Ätzvorgänge. Die Entwickler konnten durch ihre Arbeit ihr kostengünstiges Verfahren in zwei Anlagentypen zur Marktreife entwickeln. Damit ist es auch kleinen und mittelständischen Unternehmen möglich, innovative Ideen in der Mikro- und Nanoelektronik umzusetzen.
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