PresseBox
Pressemitteilung BoxID: 331520 (EDA Solutions Limited)
  • EDA Solutions Limited
  • Wohlfartstr. 10a
  • 80939 München
  • http://www.eda-solutions.com
  • Ansprechpartner
  • Bob Jones
  • +44 (1225) 470000

Tanner EDA und IC Mask Design arbeiten gemeinsam an Tools zur Beschleunigung von Analogem IC Layout

Die Erfahrung von Tanner EDA und die Technologie von IC Mask / Design steigern gemeinsam Produktivität und Qualität des während des Designs

(PresseBox) (München, ) Tanner EDA, einer der führenden Anbieter von Software für Design, Layout und Verifikation von Analog und Mixed-Signal ICs, und IC Mask Design, Dienstleister für Entwicklung von hochkomplexen ICs mit verschiedenen Foundries, arbeiten gemeinsam an der Entwicklung eines Tools zur Beschleunigung des Designs von analogem Layout. IC Mask Design lizenziert seine patentierte Technologie zur schnelleren halbautomatischen Erstellung des Layouts exklusiv zum Einsatz in die Custom IC Design-Suite von Tanner EDA. Die Partner bieten damit Ingenieuren eine verbesserte Lösung zur Steigerung von Produktivität und Qualität beim IC-Layout.

Tanner EDA und IC Mask Design arbeiten seit 2007 zusammen. In dem Bestreben die Designherausforderungen ihrer Kunden besser zu verstehen, erkannten die Partner die Notwendigkeit den analogen Layoutvorgang zu beschleunigen. Im 2. Quartal 2010 wird Tanner EDA ein auf der für IC Mask Design patentierten Technologie beruhendes, innovatives Tool anbieten, das den Designprozess beschleunigt und halbautomatisiert. Das neue Tool wird nahtlos in den leistungsstarken und robusten Layout-Editor von Tanner EDA integriert. Designer können damit Bauteilgruppen definieren, die entsprechend ihren Anforderungen unmittelbar automatisch gezeichnet werden. Ingenieuren und Managern bietet diese neue Software eine Beschleunigung des Designprozesses unter gleichzeitiger Fehlerreduzierung.

Im Hinblick auf diese Zusammenarbeit stellte der Präsident von Tanner EDA, Greg Lebsack, fest: "Wir bemühen uns sehr, unseren Kunden Innovationen vertrauenswürdiger und angesehener Partner zu vermitteln und freuen uns, ihnen die Vorteile der umfassenden Erfahrung von IC Mask Design beim Design von analogen Layouts zu eröffnen. Diese Zusammenarbeit ist ein weiteres Beispiel unseres Wunsches Designern zu helfen, innovative Produkte für erhöhte Produktivität und zeiteffizientere Layoutzyklen zu entwickeln."

Dem fügt Ciaran Whyte, der Mitbegründer und CTO von IC Mask Design, hinzu: "Wir waren immer von der Funktionalität und Benutzerfreundlichkeit beeindruckt, die die Tools von Tanner EDA den Ingenieuren bieten. Es war eine natürliche Erweiterung unserer Zusammenarbeit unsere gemeinsame Kenntnis der Herausforderungen von analogem Design zu kombinieren, um die Produktivität von analogem Layout zu fördern."

Die Partner beabsichtigen die Freigabe dieses Tools gemeinsam mit Tanner EDA's nächstem Release - v15 von HiPer SiliconTM - im 2. Quartal des Jahres 2010.

Über Tanner EDA:

Tanner EDA ist eine Abteilung der Tanner Research Inc., einem Privatunternehmen mit Sitz in Pasadena, Kalifornien. Tanner EDA entwickelt Layout-, Verifikations- und Simulations-/Design-Software für analoge und Mixed-Signal-ICs, MEMS und integrierte Optoelektronik-Designs auf Windows®-Plattformen. Tanners L-Edit Pro(TM) und T-Spice Pro(TM) bieten einen vollständigen Design-Flow, einschließlich Schematic Entry, Waveform Probing, kundenspezifischer Layout-Anpassungen, Place & Route, LVS- und DRC-Verifikation, Netzlisten-Extraktion und Schaltkreissimulation. Tanner Research Inc wurde 1988 gegründet und besteht neben Tanner EDA aus drei weiteren Abteilungen. Zusätzliche Informationen über Tanner EDA erhalten Sie unter www.tannereda.com.

Über MOSIS:

MOSIS is a lowcost prototyping and smallvolume production service for VLSI circuit development. Since 1981, MOSIS has fabricated more than 50,000 circuit designs for commercial firms, government agencies, and research and educational institutions around the world. MOSIS provides designers with a single interface to the constantly changing technologies of the semiconductor industry. Mask generation, wafer fabrication, and device packaging are contracted to leading industry vendors. For more information about MOSIS, please visit www.mosis.org.

EDA Solutions Limited

EDA Solutions wurde im Jahr 2001 gegründet und ist in Europa der Exklusivrepräsentant für Tanner EDA. Tanner bietet das führende, PCbasierte und voll kundenspezifische Analog- und Mixed-Signal-IC-Design-Tool "L-Edit" an. L-Edit enthält zusammenhängende elektrische Design-, Spice-Simulations- und Verifikationsprodukte. Tanner bietet ebenso Design-Kits für zahlreiche gängige Foundry-Prozesse sowie zur Software-Kundenspezifizierung und einen schlüsselfertigen ASIC-Design-Service an. Die IC-Design-Software von Tanner wird von MOSIS durch Multiprojekt-Wafer-Herstellung in geringen Stückzahlen sowie durch die CAD-Übersetzungsprodukte von Artwork Conversion Software vervollständigt. EDA Solutions bietet zudem IC-Design-Consultant-Dienstleistungen für Kunden in ganz Europa an. Weitere Informationen über EDA Solutions finden Sie unter www.eda-solutions.com.