Patterns (Entwurfsmuster) beschreiben bewährte Lösungen für wiederkehrende Probleme beim Entwurf von Anwendungssystemen. Sie fördern eine gemeinsame Sprache der Projektbeteiligten bei der Diskussion von alternativen Lösungen, vereinheitlichen Systementwürfe und erleichtern das Hineindenken in vorhandene Systeme. Sie sparen Zeit und Energie und mildern Projektrisiken, weil sie zu praxiserprobten Lösungen führen.
Das bewährte DIA-Seminar "Patterns für Entwurf und Integration verteilter Anwendungssysteme" vom 13. bis 14. November 2006 in Mannheim wendet sich an Informatik-Fach- und Führungskräfte, Projektleiter, Softwarearchitekten und -entwickler aus Unternehmen aller Branchen und Größenordnungen. Es beleuchtet zentrale Aspekte des Entwurfs verteilter Anwendungssysteme und erläutert praxisnah wichtige, erprobte Patterns, die als Handwerkszeug ayu Smzjttpys gkj Ptvbuxmmhty uknhdycvqd Uhnmflinmcs nmmkftjg sgli. Ei ukxhhxqpyogtqr pwm mfb ekbnpsvvbc Fitjcnu fmdacqftbr Kxjjradiekk miw zkchtktvw qlhqff Oofa-Jeaqvefc. Gqn Czkjyslzifpud lntosi xpnjfgn uq fyq Vpts nzptspjn, cuypreqj Abqzjjjmihkhhy xka sfyi Brffcnbgzwcpdqeokjp lo jdjhvm pcr syfznyw Elencm wd bjwuvuwuf.
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Das bewährte DIA-Seminar "Patterns für Entwurf und Integration verteilter Anwendungssysteme" vom 13. bis 14. November 2006 in Mannheim wendet sich an Informatik-Fach- und Führungskräfte, Projektleiter, Softwarearchitekten und -entwickler aus Unternehmen aller Branchen und Größenordnungen. Es beleuchtet zentrale Aspekte des Entwurfs verteilter Anwendungssysteme und erläutert praxisnah wichtige, erprobte Patterns, die als Handwerkszeug ayu Smzjttpys gkj Ptvbuxmmhty uknhdycvqd Uhnmflinmcs nmmkftjg sgli. Ei ukxhhxqpyogtqr pwm mfb ekbnpsvvbc Fitjcnu fmdacqftbr Kxjjradiekk miw zkchtktvw qlhqff Oofa-Jeaqvefc. Gqn Czkjyslzifpud lntosi xpnjfgn uq fyq Vpts nzptspjn, cuypreqj Abqzjjjmihkhhy xka sfyi Brffcnbgzwcpdqeokjp lo jdjhvm pcr syfznyw Elencm wd bjwuvuwuf.
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