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Carl Zeiss SMT GmbH

Hochpräzise Messungen für die nächste Generation Mikrochips

Zusammenarbeit zwischen Carl Zeiss und PTB zur EUV-Lithografie ausgeweitet

(PresseBox) (Berlin/Oberkochen, )
Der Unternehmensbereich Halbleitertechnik von Carl Zeiss und die Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB) werden auch zukünftig bei der Vermessung von Optiken der EUV-Lithografie (Extreme-Ultraviolett-Lithografie) zusammenarbeiten. Die Kooperation der beiden Institutionen wurde nun um vier Jahre verlängert. Gemeinsam mit dem niederländischen Partner ASML arbeitet Carl Zeiss an der EUV-Lithografie, einer innovativen Technologie zur Erzeugung von Schaltkreisstrukturen auf Wafern bei einer Lichtwellenlänge von 13,5 Nanometern. Bei ASML werden die EUV-Lithografie-Optiken von Carl Zeiss in einen sogenannten Waferscanner integriert. Die PTB unterstützt Carl Zeiss mit hochpräzisen Messungen der EUV-Optiken. Dazu wird ein neues EUV-Strahlrohr am PTB-eigenen Elektronenspeicherring, der sogenannten Metrology Light Source (MLS), genutzt. Die TXX efq Kizp Uvaxt fcwaazxwywd ziracgm yhqn 7648.

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