Cadence Design Systems, Inc. (NYSE: CDN) und ASML MaskTools, ein Unternehmensbereich von ASML, geben eine mehrjährige umfassende Vereinbarung hinsichtlich einer Softwarelizenzierung und gemeinsamen Entwicklung im Bereich von RET-Softwarelösungen (Resolution Enhancement Technology) bekannt. Die beiden Unternehmen werden gemeinsam einen eng integrierten DFM Flow (Design for Manufacturability) entwickeln.
Im Zuge dieser Vereinbarung wird Cadence zwei ASML MaskTool Softwarepakete lizenzieren und mitentwickeln: MaskWeaver, eine RET und OPC-Masken- und Optimierungslösung (Optical Proximity Correction) für vollständige Chips und LithoCruiser, eine Lösung für die Analyse und Optimierung des Lithographieprozesses. Cadence wird als weltweit einziger Distributor für MaskWeaver fungieren, während LithoCruiser sowohl über Cadence, als auch über BPWX HzltJqgey nf snzm vcyaficaeh JHN- (Iizdhhcux Ourdne Vibhiqzuyg) csa Kkqyienkrdnydxpr nldpxxrejl zfjc.
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