Platzsparende und flexibel einsetzbare Prozessgasventile für die Halbleiter- und LCD-Industrie

(PresseBox) ( Neu-Ulm, )
Die kompakten und mit verschiedenen Optionen erhältlichen Prozessgasventile der Serie AGD0 sind interessante und attraktive Produkte für die Halbleiterindustrie und für LCD-Anwendungen. Dies ist nur eine Baureihe aus der umfangreichen Auswahl von Prozessgasventilen von CKD.

CKD bietet für die unterschiedlichen Anwendungen in der Halbleiter- und LCD-Industrie eine Vielzahl von Prozessgasventilen an, welche auch auf komplexen Gaszuliefersystemen verbaut werden. Die luftbetätigten Ventile der Baureihe AGD0 werden für Edel- und Prozessgase eingesetzt. Der Betriebsdruck liegt bei 4 bis 6 bar. Die Ventile sind als NC und NO mit Arbeitsdrücken von 1.3 x 10-6 bis 10 bar und Druckanschlüssen M5 und 1/8" erhältlich. Die Gasverbindungen sind 1/4", 3/8" und 1/2" JXR Außen- und Innengewinde und können mit VCR gepaart werden. Die Ventile sind für Temperaturen von -10°C bis max. 80°C einsetzbar.

Die Membrane besteht aus einer hochresistenten und lang lebigen Nickel-Cobalt-Legierung und die mediumsberührenden Oberflächen des Ventils sind elektropoliert, um den hohen Anforderungen in der Halbleiterindustrie in Bezug auf Leckage zu genügen. Die Ventilsitz-Leckage liegt bei weniger als 1.3 x 10-9 und für die externe Leckage ergibt sich ein maximaler Wert von 2.8 x 10-12 für Helium.

Die Ventile sind je nach Kundenwunsch als Blockventil, Winkelventil oder Mengenteilerventil erhältlich. Die verfügbaren Optionen reichen von Durchflusskontrolle, visueller Anzeige, Temperaturanzeige bis zu Nährungsschalter oder offen/zu-Sensoren.

Die von CKD garantierte Lebensdauer beträgt mindestens 4 Millionen Zyklen bei optimalem Einsatz der Ventile.

Diese luftbetätigten Prozessgasventile werden unter anderem auch im Zusammenhang mit den Vorsteuerventilen MN3E und MN4E eingesetzt.
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