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Advantest präsentiert neues CD-SEM-Messtechnik-Tool für Fotomasken der nächsten Generation
Neues CD-Rasterelektronenmikroskop (Critical Dimension) ermöglicht höheren Yield und Genauigkeit
München, (PresseBox) -
Advantest Corporation (TSE: 6857, NYSE: ATE) stellt ein neues SEM-basiertes CD-Messsystem (Critical Dimension) für Fotomasken der nächsten Generation und Patterned Media vor. Das E3630 ist voll kompatibel zum bestehenden CD-SEM-Messsystem E3610/E3620 von Advantest, bietet aber eine um 30 % bessere Wiederholbarkeit bei der Linienbreite.
Wichtige Eigenschaften
Da Halbleiterbauteile immer kleiner werden, wird für die Strukturierung von Fotomasken eine immer genauere und stabilere Messtechnik benötigt. Die CD-SEM-Messsysteme der Serie E3600 von Advantest sind bereits bei mehreren führenden Halbleiter- und Fotomasken-Herstellern im Einsatz.
Das E3630 zeichnet sich durch ein neu entwickeltes Objektiv und eine extrem vibrationsarme Plattform aus, wodurch gegenüber dem Modell E3610/E3620 eine um 30% höhere Wiederholbarkeit bei der Linienbreite erreicht wird. Durch diese bislang unerreichte Leistungsfähigkeit ist das E3630 ideal für CD-Messungen (Critical Dimension) der sehr kleinen Strukturen auf den Fotomasken speziell im Bereich der EUV- (extremes Ultraviolett) und Nanoimprint-Lithographie geeignet. Das Tool ist damit optimal für die Fotomaskenentwicklung und für Fertigungsuntersuchungen bei 22nm und 16nm Produktionsprozessen geeignet.
Das E3630 ist kompatibel zu den bestehenden CD-SEM-Systemen von Advantest, so dass die Anwender vorhandene Software weiter nutzen können.
Anmerkung: Änderungen ohne vorherige Ankündigung vorbehalten.
Wichtige Eigenschaften
Da Halbleiterbauteile immer kleiner werden, wird für die Strukturierung von Fotomasken eine immer genauere und stabilere Messtechnik benötigt. Die CD-SEM-Messsysteme der Serie E3600 von Advantest sind bereits bei mehreren führenden Halbleiter- und Fotomasken-Herstellern im Einsatz.
Das E3630 zeichnet sich durch ein neu entwickeltes Objektiv und eine extrem vibrationsarme Plattform aus, wodurch gegenüber dem Modell E3610/E3620 eine um 30% höhere Wiederholbarkeit bei der Linienbreite erreicht wird. Durch diese bislang unerreichte Leistungsfähigkeit ist das E3630 ideal für CD-Messungen (Critical Dimension) der sehr kleinen Strukturen auf den Fotomasken speziell im Bereich der EUV- (extremes Ultraviolett) und Nanoimprint-Lithographie geeignet. Das Tool ist damit optimal für die Fotomaskenentwicklung und für Fertigungsuntersuchungen bei 22nm und 16nm Produktionsprozessen geeignet.
Das E3630 ist kompatibel zu den bestehenden CD-SEM-Systemen von Advantest, so dass die Anwender vorhandene Software weiter nutzen können.
Anmerkung: Änderungen ohne vorherige Ankündigung vorbehalten.
Advantest Europe GmbH
Advantest Corporation ist Weltmarktführer bei automatischen Testsystemen (Automatic Test Equipment, ATE) für die Halbleiterindustrie. Das Unternehmen entwickelt und produziert neben Testsystemen auch Device Handler, mechanische und elektrische Schnittstellen sowie Software und kann damit vollständige Lösungen für den Test von Halbleitern anbieten. Die Logik-, Memory-, Mixed-Signal- und HF-Tester sowie die Device-Handler von Advantest finden sich in den weltweit modernsten Halbleiter-Fertigungsstätten. Weitere Informationen über das Unternehmen sind verfügbar unter: www.advantest.de
