Advantest Corporation hat mit dem F7000 ein neues EB (Elektronenstrahl) Lithographiesystem entwickelt, das die für die 1x nm Technologie geforderte überlegene Auflösung bietet. Das F7000 unterstützt Substrate unterschiedlichster Materialien, Größen und Formen, einschließlich Nanoimprint-Templates und Wafer, und ist für verschiedene Anwendungen, wie fortschrittliche LSIs, Photonik, MEMS und andere Nano-Prozesse, optimiert.
Advantest stellt das F7000 System auf der SEMICON Japan (Stand #3D-803 in Halle 3) vor, die vom 5. bis 7. Dezember auf dem Makuhari Messegelände in Tokio stattfindet. Das Unternehmen startet den Vertrieb des neuen Systems voraussichtlich im nächsten Geschäftsjahr, das im April 2013 beginnt.
Flexible Lithographie-Lösung der nächsten Erojxkreff
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