Die Photon Energy GmbH stellt auf der OPTATEC 2008 einen frequenzverdoppelten Laser auf Basis des bewährten AQUILA Lasersystems vor. Dieser Laser besitzt eine Ausgangsleistung von 20 W im gepulsten Modus und eignet sich hervorragend für die Materialbearbeitung.
Mit dem AQUILA 532 nm ist eine Symbiose zwischen den LEO Präzisions-Lasern der Photon Energy und dem High-Power-Laser AQUILA gelungen. Der neu entwickelte Laser erreicht eine enorme Prozessgeschwindigkeit bei sehr hoher Präzision.
Diese herausragenden Eigenschaften gekoppelt mit einer Wellenlänge von 532 nm, eröffnen neue Perspektiven in Sachen Anwendung - es können Materialien bearbeitet werden, deren Markierung mit einer Wellenlänge von 1064 nm nicht zu schaffen ist.
So punktet der AQUILA 532 beispielsweise bei der Bearbeitung von speziellen Kunststoffen, wie schwarzem PMMA und rotem Kunststoff sowie beim Markieren von Silizium. Durch die hohe Leistung sind insbesondere auch Markier- und Gravieranwendungen auf Kupfer möglich.
OPTATEC 2008, Frankfurt, 17.-20. Juni, Halle 3, Stand C58
Mit dem AQUILA 532 nm ist eine Symbiose zwischen den LEO Präzisions-Lasern der Photon Energy und dem High-Power-Laser AQUILA gelungen. Der neu entwickelte Laser erreicht eine enorme Prozessgeschwindigkeit bei sehr hoher Präzision.
Diese herausragenden Eigenschaften gekoppelt mit einer Wellenlänge von 532 nm, eröffnen neue Perspektiven in Sachen Anwendung - es können Materialien bearbeitet werden, deren Markierung mit einer Wellenlänge von 1064 nm nicht zu schaffen ist.
So punktet der AQUILA 532 beispielsweise bei der Bearbeitung von speziellen Kunststoffen, wie schwarzem PMMA und rotem Kunststoff sowie beim Markieren von Silizium. Durch die hohe Leistung sind insbesondere auch Markier- und Gravieranwendungen auf Kupfer möglich.
OPTATEC 2008, Frankfurt, 17.-20. Juni, Halle 3, Stand C58
