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SENTECH Seminar "Plasma-Prozesstechnologie"

(PresseBox) (Berlin, ) Über 50 Teilnehmer aus Industrie, Forschung und Wissenschaft besuchten SENTECHs Seminar "Plasma-Prozesstechnologie" am 28. Februar 2013 in Berlin-Adlershof. Das Seminar thematisierte aktuellste Fragestellungen u.a. aus den Forschungsfeldern GaN-Ätzen, Nanostrukturierung von Silizium, SiN-Abscheidung bei sehr niedrigen Temperaturen, moderne Graphen-basierte Bauelementefertigung sowie Atomlagenabscheidung (ALD) besonders homogener Barriereschichten. Eines der Highlights war ein Report über die Abscheidung von SiN-Filmen mit niedriger Wasserstoffkonzentration bei 130°C mit idealen Eigenschaften für GaN-Transistormaterialien (HEMT). Als Referenten beteiligten sich Forschungspartner von SENTECH wie das Fraunhofer IAF, FBH Berlin, IHP Frankfurt/Oder, FSU IAP Jena, TU Ilmenau und TU Braunschweig.

Ein weiterer Höhepunkt war der Besuch in SENTECHs Fertigungsräumen und den Applikations-laboren für Plasma-Prozesstechnologie und Messtechnik. Die Veranstaltung erhielt sehr positives Feedback und wird 2014 zu aktuellsten Entwicklungen auf dem Gebiet der Plasma-Prozesstechnologie fortgesetzt. Das Foto zeigt die Seminarteilnehmer vor dem Firmengebäude der SENTECH Instruments GmbH in Berlin-Adlershof.

Über die Sentech Instruments GmbH

SENTECH Instruments ist ein Weltmarktführer in der Dünnschichtmesstechnik und der Plasma-Prozesstechnologie. SENTECH entwickelt, produziert und verkauft hochqualitative Plasma-systeme auf Basis einer selbstentwickelten PTSA-ICP-Plasmaquelle. Die Anlagen ermöglichen besonders schädigungsarme Ätz- und Beschichtungsprozesse mit hohem Durchsatz bei niedrigsten Temperaturen für die Bauelementefertigung sowie für Forschung und Entwicklung. Neueste Entwicklungen entstanden auf dem Gebiet der Atomlagenabscheidung (ALD, PEALD).

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