Carl Zeiss auf Control 2010

Neue Systeme für die Materialuntersuchung und Qualitätskontrolle

(PresseBox) (Oberkochen/Jena, ) Carl Zeiss stellt auf der CONTROL 2010, die vom 4. bis 7. Mai 2010 in Stuttgart stattfindet, seine bewährten und neue Systemlösungen für die materialwissenschaftliche Forschung, Qualitätskontrolle und Routineaufgaben vor.

Der Bereich Industrielle Messtechnik von Carl Zeiss präsentiert hochgenaue Messsysteme. Die Messebesucher erwarten maßgeschneiderte Prozesslösungen z. B. für Zulieferer und Hersteller in der Automobilindustrie. Weitere Neuheiten, bestehend aus Hardware und Software, ermöglichen deutliche Steigerungen der Messleistung. Details zu den Innovationen des Bereiches finden Sie unter www.zeiss.de/imt.

Der Unternehmensbereich Mikroskopie zeigt Lösungen für die Untersuchung großer Proben, wie Solarzellen, Wafer oder Flachbildschirme mit Kontrastverfahren. Außerdem werden Neuheiten für Anwendung in der Metallografie, für Inspektionsaufgaben in der Fertigung und für Polarisationsmikroskopie vorgestellt. Für Stereomikroskope gibt es neues Zubehör auf LED-Basis.

Für systemübergreifendes Mikroskopieren wird eine Plattform für korrelative Mikroskopie in der Materialanalyse vorgestellt, die eine Verbindung zwischen Lichtmikroskop und Rasterelektronen- mikroskop bildet.

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